Luminescence Control of Led Heterostructures Grown by Method of Metalorganic Vapor Phase Epitaxy on Sapphire (Запись № 669430)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03074nlm1a2200409 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030042222.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\40670
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\40570
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20230505a2023 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Luminescence Control of Led Heterostructures Grown by Method of Metalorganic Vapor Phase Epitaxy on Sapphire
Первые сведения об ответственности Li Zixuan, L. V. Vorobyova, V. I. Oleshko
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 9 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания The paper presents the results of spectral and kinetic characteristics of pulse cathode- and photoluminescence of AlGaN/GaN and InGaN/GaN LED heterostructures grown on sapphire by metalorganic vapor phase epitaxy. The effect of high current electron beam energy density on the spectral and amplitude characteristics of luminescence spectra of heterostructures is studied. The spatial distribution of fluorescence characteristics on the wafer surface was studied. It is found that in some InGaN/GaN heterostructures, a shift of the maximum of stimulated cathodoluminescence spectra, measured at different points of the sample, is observed. This result is explained by variations in the composition and thickness of the quantum dimensional active region caused by nonideality of the wafer growth process.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Russian Physics Journal
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 65, iss. 11
Обозначение тома [P. 1875-1880]
Дата публикации 2023
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин LED
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин heterostructure
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин superlattice
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин cathode- and photoluminescence
700 #0 - Имя лица – первичная ответственность
Начальный элемент ввода Li Zixuan
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Vorobyova
Часть имени, кроме начального элемента ввода L. V.
Дополнения к именам, кроме дат linguist
-- associate Professor of Tomsk Polytechnic University, candidate of philological Sciences
Даты 1979-
Расширение инициалов личного имени Lyudmila Vladimirovna
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\36255
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Oleshko
Часть имени, кроме начального элемента ввода V. I.
Дополнения к именам, кроме дат specialist in the field of lightning engineering
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences
Даты 1948-
Расширение инициалов личного имени Vladimir Ivanovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\33783
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Школа базовой инженерной подготовки
-- Отделение русского языка
-- 8030
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23517
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Инженерная школа новых производственных технологий
-- Отделение материаловедения
-- 7871
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23508
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20230505
Правила каталогизации RCR
856 40 - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса https://doi.org/10.1007/s11182-023-02845-z
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 669430
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.