Channeling of 20-35 MeV electrons in Si substrates of multilayer structures / V. V. Kaplin, S. R. Uglov
Язык: английский.Страна: Россия.Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: Библиогр.: 2 (назв.).Тематика: труды учёных ТПУ | электроны | каналирование | кремний | подложки | многослойные структурыНет реальных экземпляров для этой записи
Библиогр.: 2 (назв.)
Для данного заглавия нет комментариев.
Личный кабинет оставить комментарий.