Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering / Y. Musil [et al.]

Уровень набора: Vacuum = 1951-Альтернативный автор-лицо: Musil, Y., physicist, Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences, 1934-, Yindrikh;Javdosnak, D.;Cerstvy, R., Radomir;Haviar, S.;Remnev, G. E., physicist, Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences, 1948-, Gennady Efimovich;Uglov, V. V., Physicist, Leading researcher of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences, 1954-, Vladimir VasilievichКоллективный автор (вторичный): Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Институт физики высоких технологий (ИФВТ), Лаборатория № 1Язык: английский.Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: [References: p. 44-45 (16 tit.)].Аудитория: .Тематика: электронный ресурс | труды учёных ТПУ | магнетронное распыление | защитные покрытия | Al-Si-N Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайн
Тэги из этой библиотеки: Нет тэгов из этой библиотеки для этого заглавия. Авторизуйтесь, чтобы добавить теги.
Оценка
    Средний рейтинг: 0.0 (0 голосов)
Нет реальных экземпляров для этой записи

Title screen

[References: p. 44-45 (16 tit.)]

Для данного заглавия нет комментариев.

оставить комментарий.