Найдено 6 результатов.

Результаты
	1.	Influence of deposition conditions on mechanical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method / A. S. Grenaderov [et al.]Уровень набора: Surface and Coatings TechnologyДоступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	2.	Deposition of Cr films by hot target magnetron sputtering on biased substrates / D. V. Sidelev [et al.]Уровень набора: Surface and Coatings TechnologyДоступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	3.	Effect of deposition conditions on optical properties of a-C:H:SiOx films prepared by plasma-assisted chemical vapor deposition method / A. S. Grenadyorov, K. V. Oskomov, A. A. SolovievУровень набора: OptikДоступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	4.	Effect of substrate bias and substrate/plasma generator distance on properties of a-C:H:SiOx films synthesized by PACVD / A. S. Grenaderov, A. A. Soloviev (Solovyev), K. V. Oskomov [et al.]Уровень набора: Thin Solid Films = 1967-Доступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	5.	Preparation of nickel-containing conductive amorphous carbon films by magnetron sputtering with negative high-voltage pulsed substrate bias / A. A. Soloviev (Solovyev), K. V. Oskomov, A. S. Grenadyorov, P. D. MaloneyУровень набора: Thin Solid Films = 1967-Доступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)
	6.	Magnetron deposition of copper oxide coatings in a metallic mode enhanced by RF-ICP source: A role of substrate biasing / D. V. Sidelev, E. D. Voronina, G. A. Bleykher (Bleicher)Уровень набора: VacuumДоступность: : Добавить в подборку Добавить в корзину (удалить)