Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий = The analysis of magnetron sputtering systems possibilities for high-rate deposition of functional coatings / Г. А. Блейхер, В. П. Кривобоков, А. В. Юрьева
Уровень набора: Известия вузов. Физика, научный журнал / Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) = 1957-Язык: русский.Страна: Россия.Резюме или реферат: Разработана математическая модель тепловых процессов в мишени и эмиссии атомов с ее поверхности при работе импульсных магнетронных распылительных систем (МРС). С ее помощью выявлены параметры магнетронов (мощность, длительность импульсов), которые способны обеспечить возникновение испарения. Показана его роль в усилении эмиссии атомов с поверхности мишени. Благодаря испарению количество вещества, удаляемого с поверхности мишени за один импульс тока, увеличивается более чем в 10 раз. Рассмотрена возможность существенного усиления эмиссии атомов с поверхности теплоизолированной мишени МРС, работающей с импульсно-периодическим источником питания.; The mathematical model, which describes the thermal processes in a target and atomic emission from its surface when using pulsed magnetron sputtering systems, is developed The magnetron parameters (power, pulse duration) which are able to provide occurrence of evaporation are revealed. Its role in intensification of atomic emission is shown. Due to evaporation the amount of substance removed from the target surface at a current pulse is increased by more than 10 times. The possibility of substantial intensification of atomic emission from the surface of heat insulated target of the magnetron sputtering systems with repetitively pulsed power sources is considered..Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: [Библиогр.: с. 108 (5 назв.)].Аудитория: .Тематика: электронный ресурс | труды учёных ТПУ | магнетроны | распылительные системы | эмиссия | атомы | распыление | покрытия | осаждение | magnetron sputtering system | atomic emission | evaporation | sputtering | high-rate coating deposition Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайнЗаглавие с экрана
[Библиогр.: с. 108 (5 назв.)]
Разработана математическая модель тепловых процессов в мишени и эмиссии атомов с ее поверхности при работе импульсных магнетронных распылительных систем (МРС). С ее помощью выявлены параметры магнетронов (мощность, длительность импульсов), которые способны обеспечить возникновение испарения. Показана его роль в усилении эмиссии атомов с поверхности мишени. Благодаря испарению количество вещества, удаляемого с поверхности мишени за один импульс тока, увеличивается более чем в 10 раз. Рассмотрена возможность существенного усиления эмиссии атомов с поверхности теплоизолированной мишени МРС, работающей с импульсно-периодическим источником питания.
The mathematical model, which describes the thermal processes in a target and atomic emission from its surface when using pulsed magnetron sputtering systems, is developed The magnetron parameters (power, pulse duration) which are able to provide occurrence of evaporation are revealed. Its role in intensification of atomic emission is shown. Due to evaporation the amount of substance removed from the target surface at a current pulse is increased by more than 10 times. The possibility of substantial intensification of atomic emission from the surface of heat insulated target of the magnetron sputtering systems with repetitively pulsed power sources is considered.
Для данного заглавия нет комментариев.