Low energy, high intensity metal ion implantation method for deep dopant containing layer formation (Запись № 664533)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03349nlm1a2200505 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030041933.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\35717 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\network\27797 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20210419a2018 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Low energy, high intensity metal ion implantation method for deep dopant containing layer formation |
| Первые сведения об ответственности | A. I. Ryabchikov, A. E. Shevelev, D. O. Sivin [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 20 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | This study describes the first results of high intensity macroparticle-free aluminum ion beam formation and its application to low ion energy implantation. A DC vacuum arc was used to produce aluminum plasma flow. A repetitively pulsed macroparticle-free high intensity aluminum ion beam was formed using a plasma immersion ion extraction combined with ion beam focusing. A very high current ion beam with the current up to 0.475 A at bias pulse duration of 4 [mu]s and the pulse repetition rate of 105 pulses per second was obtained. Nickel substrates were irradiated by aluminum ions with very high current densities up to 100 mA/cm2 and accelerating voltages up to 2.1 kV. The maximum fluence of implantation reached 1.2•1021 ion/сm2. The results of the element composition of the modified layer were also investigated |
| 333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования | |
| Текст примечания | |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Surface and Coatings Technology |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 355 |
| Обозначение тома | [P. 123-128] |
| Дата публикации | 2018 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | high intensity ion beam |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | metal ion implantation |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | intermetallic layers |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | aluminum |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | nickel |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | ионные пучки |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | имплантация |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | ионы металлов |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | алюминий |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | никель |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | слои |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ryabchikov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. I. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of physical and mathematical sciences |
| -- | physicist |
| Даты | 1950- |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksandr Ilyich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\30912 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Shevelev |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. E. |
| Дополнения к именам, кроме дат | Physicist |
| -- | Engineer of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1990- |
| Расширение инициалов личного имени | Aleksey Eduardovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36832 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Sivin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | D. O. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Senior researcher of Tomsk Polytechnic University, Candidate of technical sciences |
| Даты | 1978- |
| Расширение инициалов личного имени | Denis Olegovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\34240 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ivanova |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. I. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Associate Scientist of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1987- |
| Расширение инициалов личного имени | Anna Ivanovna |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\36986 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Medvedev |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. N. |
| Расширение инициалов личного имени | Vladislav Nikolaevich |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Инженерная школа ядерных технологий |
| -- | Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов |
| -- | 7868 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23698 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20210419 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.02.111 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 664533 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.