Talbot photolithography optimization with engineered hybrid metal-dielectric mask: High-contrast and highly-uniform Talbot stripes (Запись № 666418)

Подробно MARC
000 -Маркер
Поле контроля фиксированной длины 03150nlm1a2200481 4500
005 - Идентификатор версии
Поле контроля фиксированной длины 20231030042036.0
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи (RuTPU)RU\TPU\network\37622
035 ## - Другие системные номера
Идентификатор записи RU\TPU\network\33154
100 ## - Данные общей обработки
Данные общей обработки 20211223a2022 k y0engy50 ba
101 0# - Язык ресурса
Язык текста, звукозаписи и т.д. английский
102 ## - Страна публикации или производства
Страна публикации
135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы
Кодированные данные для электронного ресурса drcn ---uucaa
181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания
Код вида содержания i
182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа
Код средства доступа electronic
200 1# - Заглавие и сведения об ответственности
Основное заглавие Talbot photolithography optimization with engineered hybrid metal-dielectric mask: High-contrast and highly-uniform Talbot stripes
Первые сведения об ответственности Yu. E. Geynts, I. V. Minin, O. V. Minin
203 ## - Вид содержания и средство доступа
Вид содержания
Средство доступа
300 ## - Общие примечания
Текст примечания Title screen
320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя
Текст примечания [References: 32 tit.]
330 ## - Резюме или реферат
Текст примечания Conventional projection Talbot lithography usually employs opaque (amplitude) or transparent (phase) masks for creating a periodic array of Fresnel diffraction fringes in the photosensitive substrate. For particular mask design the longitudinal periodicity of Talbot carpet can be avoided producing quasi uniform striped pattern (Talbot stripes). We propose a novel hybrid amplitude-phase mask which is engineered for obtaining extremely smooth Talbot stripes and simultaneously high lateral optical contrast and extreme spatial resolution better than a third of laser wavelength. By means of the numerical simulations, we demonstrate the robustness of produced striped diffraction patterns against mask design deviation and light incidence angle variations. The reproducibility of the Talbot stripes is reported also for 1D and 2D metal-dielectric projection masks.
333 ## - Примечания об особенностях распространения и использования
Текст примечания
461 ## - Уровень набора
Заглавие Optics and Laser Technology
463 ## - Уровень физической единицы
Заглавие Vol. 148
Обозначение тома [107776, 8 p.]
Дата публикации 2022
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин электронный ресурс
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин труды учёных ТПУ
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин Talbot lithography
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин wavelength-scaled diffraction grating
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин optical contrast
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин projection mask
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин литография
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин дифракционные решетки
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин масштабирование
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин оптический контраст
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин фотолитография
610 1# - Неконтролируемые предметные термины
Предметный термин полосы Тальбота
700 #1 - Имя лица – первичная ответственность
Начальный элемент ввода Geynts
Часть имени, кроме начального элемента ввода Yu. E.
Расширение инициалов личного имени Yury Elmarovich
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Minin
Часть имени, кроме начального элемента ввода I. V.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- Professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1960-
Расширение инициалов личного имени Igor Vladilenovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\37571
701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность
Начальный элемент ввода Minin
Часть имени, кроме начального элемента ввода O. V.
Дополнения к именам, кроме дат physicist
-- professor of Tomsk Polytechnic University, Doctor of technical sciences
Даты 1960-
Расширение инициалов личного имени Oleg Vladilenovich
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\pers\44941
712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность
Начальный элемент ввода Национальный исследовательский Томский политехнический университет
Структурное подразделение Инженерная школа неразрушающего контроля и безопасности
-- Отделение электронной инженерии
-- 7977
-- stltpush
Идентификатор авторитетной/ нормативной записи (RuTPU)RU\TPU\col\23507
801 #2 - Источник записи
Страна RU
Организация 63413507
Дата составления 20211223
Правила каталогизации RCR
856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним
Универсальный идентификатор ресурса https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2021.107776
090 ## - System Control Numbers (Koha)
Koha biblioitem number (autogenerated) 666418
942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха)
Тип документа Computer Files

Нет доступных единиц.