Combined HF+MW CVD Approach for the Growth of Polycrystalline Diamond Films with Reduced Bow (Запись № 669256)
[ простой вид ]
| 000 -Маркер | |
|---|---|
| Поле контроля фиксированной длины | 03200nlm1a2200613 4500 |
| 005 - Идентификатор версии | |
| Поле контроля фиксированной длины | 20231030042216.0 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | (RuTPU)RU\TPU\network\40496 |
| 035 ## - Другие системные номера | |
| Идентификатор записи | RU\TPU\network\40492 |
| 100 ## - Данные общей обработки | |
| Данные общей обработки | 20230310a2023 k y0engy50 ba |
| 101 0# - Язык ресурса | |
| Язык текста, звукозаписи и т.д. | английский |
| 102 ## - Страна публикации или производства | |
| Страна публикации | |
| 135 ## - Поле кодированных данных: электронные ресурсы | |
| Кодированные данные для электронного ресурса | drcn ---uucaa |
| 181 #0 - Поле кодированных данных: вид содержания | |
| Код вида содержания | i |
| 182 #0 - Поле кодированных данных: средство доступа | |
| Код средства доступа | electronic |
| 200 1# - Заглавие и сведения об ответственности | |
| Основное заглавие | Combined HF+MW CVD Approach for the Growth of Polycrystalline Diamond Films with Reduced Bow |
| Первые сведения об ответственности | V. Sedov, A. Popovich, S. A. Linnik [et al.] |
| 203 ## - Вид содержания и средство доступа | |
| Вид содержания | |
| Средство доступа | |
| 300 ## - Общие примечания | |
| Текст примечания | Title screen |
| 320 ## - Примечания о наличии в ресурсе библиографии/указателя | |
| Текст примечания | [References: 56 tit.] |
| 330 ## - Резюме или реферат | |
| Текст примечания | A combination of two methods of chemical vapor deposition (CVD) of diamond films, microwave plasma–assisted (MW CVD) and hot filament (HF CVD), was used for the growth of 100 µm-thick polycrystalline diamond (PCD) layers on Si substrates. The bow of HF CVD and MW CVD films showed opposite convex\concave trends; thus, the combined material allowed reducing the overall bow by a factor of 2–3. Using MW CVD for the growth of the initial 25 µm-thick PCD layer allowed achieving much higher thermal conductivity of the combined 110 µm-thick film at 210 W/m?K in comparison to 130 W/m?K for the 93 µm-thick pure HF CVD film. |
| 461 ## - Уровень набора | |
| Заглавие | Coatings |
| 463 ## - Уровень физической единицы | |
| Заглавие | Vol. 13, iss. 2 |
| Обозначение тома | [380, 10 p.] |
| Дата публикации | 2023 |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | электронный ресурс |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | труды учёных ТПУ |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | diamond |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | thin film |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | chemical vapor deposition |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | microwave plasma |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | thermal conductivity |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | Raman spectroscopy |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | алмаз |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | тонкие пленки |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | химическое осаждение |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | микроволновая плазма |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | теплопроводность |
| 610 1# - Неконтролируемые предметные термины | |
| Предметный термин | рамановская спектроскопия |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Sedov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. |
| Расширение инициалов личного имени | Vadim |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Popovich |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. |
| Расширение инициалов личного имени | Alexey |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Linnik |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. A. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Engineer-Researcher of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1985- |
| Расширение инициалов личного имени | Stepan Andreevich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\32877 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Martyanov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. |
| Расширение инициалов личного имени | Artem |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Wei |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | J. |
| Расширение инициалов личного имени | Junjun |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Zenkin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. P. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Researcher of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1988- |
| Расширение инициалов личного имени | Sergey Petrovich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\41880 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Zavedeev |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | E. |
| Расширение инициалов личного имени | Evgeny |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Savin |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | S. |
| Расширение инициалов личного имени | Sergey |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Gaydaychuk |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | A. V. |
| Дополнения к именам, кроме дат | physicist |
| -- | Postgraduate, Engineer - Researcher of Tomsk Polytechnic University |
| Даты | 1984- |
| Расширение инициалов личного имени | Alexander Valerievich |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\pers\32876 |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Li |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | Ch. |
| Расширение инициалов личного имени | Chengming |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Ralchenko |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. |
| Расширение инициалов личного имени | Victor |
| 701 #1 - Имя лица – альтернативная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Konov |
| Часть имени, кроме начального элемента ввода | V. |
| Расширение инициалов личного имени | Vitaly |
| 712 02 - Наименование организации – вторичная ответственность | |
| Начальный элемент ввода | Национальный исследовательский Томский политехнический университет |
| Структурное подразделение | Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов |
| Идентифицирующий признак | (2017- ) |
| -- | 8118 |
| -- | stltpush |
| Идентификатор авторитетной/ нормативной записи | (RuTPU)RU\TPU\col\23551 |
| 801 #2 - Источник записи | |
| Страна | RU |
| Организация | 63413507 |
| Дата составления | 20230329 |
| Правила каталогизации | RCR |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/74890 |
| 856 4# - Местонахождение электронных ресурсов и доступ к ним | |
| Универсальный идентификатор ресурса | https://doi.org/10.3390/coatings13020380 |
| 090 ## - System Control Numbers (Koha) | |
| Koha biblioitem number (autogenerated) | 669256 |
| 942 ## - Добавленные элементы ввода (Коха) | |
| Тип документа | Computer Files |
Нет доступных единиц.