Combined HF+MW CVD Approach for the Growth of Polycrystalline Diamond Films with Reduced Bow / V. Sedov, A. Popovich, S. A. Linnik [et al.]

Уровень набора: CoatingsАльтернативный автор-лицо: Sedov, V., Vadim;Popovich, A., Alexey;Linnik, S. A., physicist, Engineer-Researcher of Tomsk Polytechnic University, 1985-, Stepan Andreevich;Martyanov, A., Artem;Wei, J., Junjun;Zenkin, S. P., physicist, Researcher of Tomsk Polytechnic University, 1988-, Sergey Petrovich;Zavedeev, E., Evgeny;Savin, S., Sergey;Gaydaychuk, A. V., physicist, Postgraduate, Engineer - Researcher of Tomsk Polytechnic University, 1984-, Alexander Valerievich;Li, Ch., Chengming;Ralchenko, V., Victor;Konov, V., VitalyКоллективный автор (вторичный): Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, (2017- )Язык: английский.Страна: .Резюме или реферат: A combination of two methods of chemical vapor deposition (CVD) of diamond films, microwave plasma–assisted (MW CVD) and hot filament (HF CVD), was used for the growth of 100 µm-thick polycrystalline diamond (PCD) layers on Si substrates. The bow of HF CVD and MW CVD films showed opposite convex\concave trends; thus, the combined material allowed reducing the overall bow by a factor of 2–3. Using MW CVD for the growth of the initial 25 µm-thick PCD layer allowed achieving much higher thermal conductivity of the combined 110 µm-thick film at 210 W/m?K in comparison to 130 W/m?K for the 93 µm-thick pure HF CVD film..Примечания о наличии в документе библиографии/указателя: [References: 56 tit.].Тематика: электронный ресурс | труды учёных ТПУ | diamond | thin film | chemical vapor deposition | microwave plasma | thermal conductivity | Raman spectroscopy | алмаз | тонкие пленки | химическое осаждение | микроволновая плазма | теплопроводность | рамановская спектроскопия Ресурсы он-лайн:Щелкните здесь для доступа в онлайн | Щелкните здесь для доступа в онлайн
Тэги из этой библиотеки: Нет тэгов из этой библиотеки для этого заглавия. Авторизуйтесь, чтобы добавить теги.
Оценка
    Средний рейтинг: 0.0 (0 голосов)
Нет реальных экземпляров для этой записи

Title screen

[References: 56 tit.]

A combination of two methods of chemical vapor deposition (CVD) of diamond films, microwave plasma–assisted (MW CVD) and hot filament (HF CVD), was used for the growth of 100 µm-thick polycrystalline diamond (PCD) layers on Si substrates. The bow of HF CVD and MW CVD films showed opposite convex\concave trends; thus, the combined material allowed reducing the overall bow by a factor of 2–3. Using MW CVD for the growth of the initial 25 µm-thick PCD layer allowed achieving much higher thermal conductivity of the combined 110 µm-thick film at 210 W/m?K in comparison to 130 W/m?K for the 93 µm-thick pure HF CVD film.

Для данного заглавия нет комментариев.

оставить комментарий.